일본 지적재산권 정보
일본의 지적재산권에 관련된 정보입니다..
특허
특허제도는 발명을 보호•장려하고 그 이용을 도모함으로써 기술의 발전을 촉진하여 산업발전에 이바지함을 목적으로 합니다. 즉, 특허제도는 발명자에게 독점•배타권을 부여하는 대가로 발명을 공개토록 하여 일반이 그 발명을 이용할 수 있도록 함으로써 궁극적으로 산업발전에 기여하고자 하는 데 목적을 두고 있습니다.
실용신안
실용신안등록제도는 특허제도와 마찬가지로 ‘고안’을 보호•장려하고 그 이용을 도모함으로써, 기술발전을 촉진하여 산업발전에 이바지하는 것을 목적으로 합니다. 고안을 완성한 자는 실용신안등록절차를 통해, 고안에 대한 독점 배타적인 권리를 획득하게 됩니다. 원칙적으로 고안자는 실용신안등록을 받을 수 있는 권리를 갖습니다.
의장
의장제도는 공업상 이용할 수 있는 창작 의장을 권리로서 확보하는 동시에 의장 창작을 장려하고 그 이용을 도모함으로써 산업발전에 이바지하는 것을 목적으로 한다. 의장 창작자는 의장등록 절차를 통해, 의장에 대한 독점 배타적인 권리를 획득하게 됩니다. 원칙적으로 의장의 창작자는 의장등록을 받을 수 있는 권리를 갖습니다.
상표
상표제도는 상표를 보호함으로써 상표사용자의 업무상 신용유지를 도모하여 산업발전에 이바지함과 아울러 수요자의 이익을 보호함을 목적으로 합니다. 상표권을 획득하기 위해서는 자타식별력, 독점적응성의 등록요건을 만족하여야 하며, 상표와 더불어 출원하는 지정상품(또는 지정서비스)를 서면에 첨부하여 제출해야 합니다.
심판・소송
심판 - 특허발명이나 실용신안, 의장 또는 상표출원에 대하여 특허청의 거절 결정에 대해 불복할 경우 또는 타인으로부터 특허•의장•상표권의 권리 주장이나 침해 경고 등을 받아, 영업에 지장이 발생한 경우에는 일정 절차를 따라 심판을 청구할 수 있습니다.
소송 - 특허권•실용신안권•의장권•상표권에 대하여 분쟁이 발생하거나 심사관 결정에 대하여 불복할 경우, 분쟁을 해결하기 위한 절차를 말합니다.
일한특허심사 하이웨이
일한 양국특허청은 특허심사하이웨이 프로그램을 2007년 4월부터 실시하고 있습니다. 일한 특허심사하이웨이 제도 하에서는, 일한 특허청이 심사결과를 공유하고 활용하여 출원인이 신속한 심사를 받을 수 있습니다. 일본에서 특허된 출원에 대하여 출원인은 간소화된 신청 절차에 따라 한국에서 우선심사제도를 이용할 수 있습니다.
PCT 국제출원
PCT 출원은 외국출원의 활성화 및 동일 발명을 여러 나라에 출원하는 경우, 출원인 및 각국 특허청의 노력과 비용경감을 목적으로 각국에서의 절차를 간소화하기 위한 제도입니다.