アップデート
[お知らせ] 「日本知的財産権情報」ページ 更新のお知らせ
A&JPatent 2026.06.17 14:00
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本日、「日本知的財産権情報」セクションの全ページを日本の最新制度に合わせて内容を更新し、より見やすいデザインに一新しました。
更新したページ
- 特許 / 実用新案 / 意匠 / 商標
- 審判・訴訟 / 日韓特許審査ハイウェイ（PPH） / PCT国際出願
反映した最新制度（2024〜2026）
商標 — コンセント（同意）制度の導入（2024.4）、他人の氏名を含む商標の登録要件の緩和
意匠 — 画像・建築物・内装デザインの保護、存続期間「出願日から25年」（2020年大改正）
特許 — AIの発明者性に関する判決（2025）、特許（登録）証の電子化（2026.4）
審判・訴訟 — 査証制度（2020）、損害賠償額の算定規定の整備（2019）
その他
- 日本語・韓国語・英語の多言語対応
- 各ページ上部に最終更新日を表示
- 要件カード・手続フロー等の見やすいデザインを適用
むすび
今後も正確かつ最新の知的財産権情報を提供するため、継続的に更新してまいります。