日本の主要な知的財産権制度
日本の知的財産権には、特許権・実用新案権・意匠権・商標権といった「産業財産権」のほか、著作権、回路配置利用権、育成者権、営業秘密、商号、商品等表示、商品形態などがあり、著作権法・種苗法・不正競争防止法などの法律によって保護されています。とりわけ産業財産権については、日本国特許庁(JPO)が出願・審査から権利登録後の管理までを一括して所管しています。
産業財産権の概要(特許庁所管)
| 権利 | 保護対象 | 存続期間 | 審査 |
|---|---|---|---|
| 特許権 | 発明(高度な技術的思想の創作) | 出願日から20年 | 実体審査あり |
| 実用新案権 | 考案(物品の形状・構造・組合せ) | 出願日から10年 | 無審査(基礎的要件のみ) |
| 意匠権 | 物品・建築物・画像のデザイン | 出願日から25年 | 実体審査あり |
| 商標権 | 商品・役務の標識(マーク) | 登録日から10年(更新で半永久) | 実体審査あり |
特許権(特許法)
- 対象:発明(自然法則を利用した技術的思想の創作のうち高度なもの)
- 主な要件:産業上の利用可能性・新規性・進歩性 など
- 存続期間:出願日から20年(医薬品等は延長登録により最長5年延長可)
- ポイント:出願後3年以内に出願審査請求が必要。早期権利化には早期審査・優先審査制度を利用できる。
実用新案権(実用新案法)
- 対象:物品の形状・構造・組合せに関する考案(いわゆる「小発明」)
- 特徴:無審査登録制度(方式・基礎的要件のみを審査して登録)。権利行使には実用新案技術評価書が必要。
- 存続期間:出願日から10年
- ポイント:早期の権利化に有用。特許出願との相互変更も可能。
意匠権(意匠法)
- 対象:物品・建築物・画像(GUI等)の形状・模様・色彩などのデザイン
- 存続期間:出願日から25年(令和元年改正・2020年4月1日施行。改正前は登録日から20年)
- ポイント:関連意匠・組物の意匠・内装の意匠など多様な保護制度がある。実体審査あり。
商標権(商標法)
- 対象:商品・役務を識別する標識(文字・図形・記号・立体・色彩・音 など)
- 存続期間:登録日から10年。10年ごとに更新でき、半永久的に存続可能。
- ポイント:識別力が必要。先願主義。マドリッド協定議定書による国際登録(国際商標)も利用できる。
その他の知的財産権
- 著作権(著作権法):文芸・学術・美術・音楽・プログラム等の創作的表現。原則として著作者の死後70年。文化庁所管。
- 回路配置利用権(半導体集積回路の回路配置に関する法律):半導体の回路配置。設定登録から10年。
- 育成者権(種苗法):植物の新品種。品種登録から原則25年(樹木は30年)。農林水産省所管。
- 地理的表示(GI法):地域の特産品の名称を保護(農林水産省)。
- 不正競争防止法:営業秘密、商品等表示(周知・著名表示)、商品形態(デッドコピー)などを保護。
- 商号(商法・会社法):営業上の名称。
産業財産権の取得手続(概要)
- 出願 → 方式審査 →(特許は出願審査請求)→ 実体審査 → 拒絶理由通知・応答(O.A.)→ 登録査定 → 設定登録(登録料納付)→ 権利発生
- 登録後は、特許料・登録料(年金)の納付により権利を維持する。
制度の目的
産業財産権制度は、新しい技術・デザイン・ネーミング等について一定期間の独占権を付与して模倣を防止し、研究開発や取引上の信用の蓄積へのインセンティブを与えることで、産業の発展を図ることを目的としています。