日本の特許・実用新案・意匠・商標をはじめとする知的財産権制度全般の情報をまとめました。下のテーマ別カードから各制度の概要と詳細をご確認いただけます。
特許発明を保護・奨励し、技術と産業の発展に寄与する制度。発明者に独占排他権を付与する代わりに発明を公開します。詳しく見る 実用新案物品の形状・構造・組合せに関する「考案」を保護・奨励する制度。考案者に独占排他的な権利を付与します。詳しく見る 意匠工業上利用できる創作意匠（デザイン）を権利として確保し、創作を奨励する制度。詳しく見る 商標商標を保護し、使用者の業務上の信用維持と需要者の利益保護を図る制度。自他識別力が必要です。詳しく見る 審判・訴訟拒絶査定への不服、権利紛争・侵害への対応のための審判請求および訴訟手続を案内します。詳しく見る 日韓特許審査ハイウェイ2007年4月開始。日韓の特許庁が審査結果を共有し、迅速な審査を受けられる制度（PPH）。詳しく見る PCT国際出願同一発明を複数国に出願する際、手続を簡素化し費用・労力を軽減する国際出願制度。詳しく見る